lunes, 28 de febrero de 2011

Comunicado de prensa: El Director General de la OMPI habla sobre el futuro del derecho de autor

El Director General de la OMPI habla sobre el futuro del derecho de autor

Ginebra, 25 de febrero de 2011
PR/2011/679

El Director General de la OMPI, Sr. Francis Gurry, dijo hoy que el derecho de autor debe evolucionar para  adecuarse a la realidad tecnológica actual, o de lo contrario perderá relevancia. Haciendo uso de la palabra en una conferencia en la Facultad de Derecho de la University of Technology de Queensland (Australia) sobre el futuro del derecho de autor, el Sr. Gurry afirmó que no hay una única respuesta mágica a la pregunta de cómo hacer frente a los desafíos que se plantean al derecho de autor en la era digital, sino que hay que atacar el problema desde varios frentes, a saber, "el derecho, la infraestructura, el cambio cultural, la colaboración institucional y mejores modelos operativos."

Texto completo del comunicado

Anule su suscripción a este servicio.

jueves, 24 de febrero de 2011

Denuncia del Acta de 1934: Aruba, Curazao, San Martín (parte neerlandesa) y la parte Caribeña de los Países Bajos (Bonaire, San Eustaquio y Saba)

Sistema de La Haya Relativo al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales

Ginebra, 24 de febrero de 2011

 

El aviso informativo N.o 1/2011 relativo a la Denuncia del Acta de 1934:  Aruba, Curazao, San Martín (parte neerlandesa) y la parte Caribeña de los Países Bajos (Bonaire, San Eustaquio y Saba) se encuentra disponible en el sitio Web de la OMPI en la siguiente dirección:  http://www.wipo.int/hague/es/notices/

Remove or add an email address to this mailing list.

lunes, 21 de febrero de 2011

Seminario sobre el Sistema de la Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales

Sistema de La Haya Relativo al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales

Ginebra, 21 de febrero de 2011

 

 

La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) está organizando un Seminario sobre el Sistema de la Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales que tendrá lugar en la sede de la OMPI en Ginebra, el 30 de marzo de 2011.  El seminario será llevado a cabo en inglés y francés con interpretación simultánea al español, francés e inglés.

 

El objetivo del seminario es promover una mejor comprensión del sistema de la Haya entre los usuarios actuales y potenciales, tanto de la industria o de la práctica privada, y se focalizará en las necesidades de los agentes de propiedad industrial de las empresas o independientes (para-legales así como abogados), que presentan solicitudes para el registro de dibujos y modelos industriales y administran tales registros.  El seminario cubrirá todos los aspectos del sistema de la Haya, incluyendo asuntos legales y prácticos (principales características y ventajas del sistema, los diferentes procedimientos, etc.) así como los desarrollos recientes en el área del registro internacional de dibujos y modelos industriales.

 

Para ver el Programa Provisional del seminario así como el documento de Información General, y para registrarse en-línea, por favor visite:  http://www.wipo.int/meetings/es/registration.html.

 

Para mayor información sobre el seminario o sobre el sistema de la Haya, por favor sírvase contactar a:

 

Sección de Información y Promoción

Registro Internacional de Dibujos y Modelos

Sector de Marcas y Dibujos y Modelos

Correo-electrónico:  intreg.mail@wipo.int

 

Remove or add an email address to this mailing list.

Seminario sobre el Sistema de la Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales

Sistema de La Haya Relativo al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales

Ginebra, 21 de febrero de 2011

 

 

La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) está organizando un Seminario sobre el Sistema de la Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales que tendrá lugar en la sede de la OMPI en Ginebra, el 30 de marzo de 2011.  El seminario será llevado a cabo en inglés y francés con interpretación simultánea al español, francés e inglés.

 

El objetivo del seminario es promover una mejor comprensión del sistema de la Haya entre los usuarios actuales y potenciales, tanto de la industria o de la práctica privada, y se focalizará en las necesidades de los agentes de propiedad industrial de las empresas o independientes (para-legales así como abogados), que presentan solicitudes para el registro de dibujos y modelos industriales y administran tales registros.  El seminario cubrirá todos los aspectos del sistema de la Haya, incluyendo asuntos legales y prácticos (principales características y ventajas del sistema, los diferentes procedimientos, etc.) así como los desarrollos recientes en el área del registro internacional de dibujos y modelos industriales.

 

Para ver el Programa Provisional del seminario así como el documento de Información General, y para registrarse en-línea, por favor visite:  http://www.wipo.int/meetings/es/registration.html.

 

Para mayor información sobre el seminario o sobre el sistema de la Haya, por favor sírvase contactar a:

 

Sección de Información y Promoción

Registro Internacional de Dibujos y Modelos

Sector de Marcas y Dibujos y Modelos

Correo-electrónico:  intreg.mail@wipo.int

Remove or add an email address to this mailing list.

miércoles, 9 de febrero de 2011

Press Release: International Patent Filings Recover in 2010




International Patent Filings Recover in 2010

Geneva, February 9, 2011
PR/2011/678

International patent filings under WIPO's Patent Cooperation Treaty (PCT) increased by 4.8% in 2010, with strong growth from China (+56.2%), the Republic of Korea (+20.5%), and Japan (+7.9%), offsetting a mixed performance in European countries and a continued decline in the United States (-1.7%). Provisional data indicates that 162,9001 international patent applications were filed in 2010 as compared to the 155,398 applications filed in 2009 (annex 1).

Unsubscribe from this service.



Comunicado de prensa: Recuperación en la presentación de solicitudes internacionales de patentes en 2010

Recuperación en la presentación de solicitudes internacionales de patentes en 2010

Ginebra, 9 de febrero de 2011
PR/2011/678

El número de solicitudes internacionales de patente presentadas con arreglo al Tratado de Cooperación en materia de Patentes (PCT) aumentó un 4,8% en 2010, siendo China el país que registró el mayor crecimiento (+56.2%), seguido de la República de Corea (+20,5%) y el Japón (+7,9%), lo cual compensó unos resultados desparejos en los países europeos y un descenso en los Estados Unidos de América ( 1,7%). Las estadísticas provisionales de las que se dispone apuntan a que en 2010 se presentaron 162.9001 solicitudes internacionales de patente, en comparación con las 155.398 solicitudes presentadas en 2009 (véase el anexo 1).

Texto completo del comunicado

Anule su suscripción a este servicio.

martes, 8 de febrero de 2011

Novedades sobre los conocimientos tradicionales 1/2011

Conocimientos tradicionales, recursos genéticos y folclore/expresiones culturales tradicionales

Ginebra, 8 de febrero de 2011


Comité intergubernamental sobre propiedad intelectual y recursos genéticos, conocimientos tradicionales y folclore (CIG):

Segunda reunión del Grupo de trabajo entre sesiones (IWG 2) del CIG

Del 21 al 25 de febrero de 2011

Nuevo  Los documentos para la Segunda reunión del Grupo de trabajo entre sesiones se encuentran disponible en nuestra página Web, bajo "Novedades", a saber:  WIPO/GRTKF/IWG/2/1PROV.:  Proyecto de orden del día;  WIPO/GRTKF/IC/18/5 Prov.:  La Protección de los Conocimientos Tradicionales: Objetivos y Principios Revisados.  Otros documentos de trabajo seguirán siendo puestos en línea progresivamente.

 

Tercera reunión del Grupo de trabajo entre sesiones (IWG 3) del CIG

Del 28 de febrero al 4 de marzo de 2011

Nuevo  Los documentos para la Tercera reunión del Grupo de Trabajo entre sesiones están disponible en la mayoría de los idiomas de las Naciones Unidas en nuestra página Web, bajo "Novedades", incluyendo:  WIPO/GRTKF/IWG/3/1PROV. 2:  Proyecto de orden del día;  WIPO/GRTKF/IWG/3/6:  WIPO/GRTKF/IC/17/6: "Recursos genéticos: lista de opciones revisada y reseña actualizada" y  WIPO/GRTKF/IWG/3/14:  WIPO Technical Study on Disclosure Requirements Concerning Genetic Resources and Traditional Knowledge (WIPO Publication No. 786) (disponible actualmente en inglés) entre otros.  Otros documentos de trabajo seguirán siendo puestos en línea progresivamente.


También se encuentra disponible, el Informe final de la decimosexta sesión del CIG, WIPO/GRTKF/IC/16/8.


Recordatorio

Nuestra página Web también ofrece información sobre varios plazos y reuniones futuras.


Para más información…

Para preguntas generales sobre las actividades de la OMPI con respecto a la propiedad intelectual y los conocimientos tradicionales, recursos genéticos y expresiones culturales tradicionales (folclore) y sujetos conexos, se ruega llenar este formulario.

Para desabonarse de esta lista de distribución o añadir otra dirección, sírvase consultar la página: http://www.wipo.int/lists/subscribe/globalissues-es

 


 

Remove or add an email address to this mailing list.

jueves, 3 de febrero de 2011

Modificación de los importes de la tasa individual: Cuba

 

Sistema de Madrid para el Registro Internacional de Marcas

Ginebra, 3 de febrero de 2011

De nuestra consideración,

 

El aviso informativo n° 4/2011 relativo a la modificación de los importes de la tasa individual respecto de Cuba se encuentra disponible en el sitio en Internet de la OMPI en la siguiente dirección electrónica: http://www.wipo.int/madrid/es/notices/index.jsp.

 

Atentamente,

 

División Jurídica y de la Promoción

Registros Internacionales de Madrid y Lisboa

Sector de Marcas y Diseños

Organización Mundial de la Propiedad Intelectual

 

___________________________

Si desea cancelar su suscripción de la lista de difusión, hágalo por favor mediante la siguiente página en Internet:
http://www.wipo.int/lists/subscribe/madrid-es
Para contactar al administrador de madrid-es, escriba a
madrid@wipo.int
Visite la página en Internet del Sistema de Madrid en la siguiente dirección :
http://www.wipo.int/madrid/es

 

Remove or add an email address to this mailing list.

miércoles, 2 de febrero de 2011

PR/2011/677: Comienza en París el Sexto Congreso Mundial de Lucha contra la Falsificación y la Piratería

Comienza en París el Sexto Congreso Mundial de Lucha contra la Falsificación y la Piratería

París, el 2 de febrero de 2011
PR/2011/677

Más de 800 delegados de organizaciones intergubernamentales, gobiernos nacionales, organismos encargados de velar por el cumplimiento de la ley y diversas empresas, procedentes de más de 100 países, se han dado cita hoy en París para abordar la nefasta incidencia que tiene el creciente comercio de productos falsificados y pirateados y la necesidad de cultivar el respeto por la propiedad intelectual de forma equilibrada y sostenible. El Sexto Congreso Mundial de Lucha contra la Falsificación y la Piratería, que se celebra los días 2 y 3 de febrero, está auspiciado por el Presidente de la República Francesa.

Texto completo.

Anule su suscripción a este servicio.

Entradas más recientes Entradas antiguas Inicio

Seguidores

Archivo del blog

Datos personales