Seminario sobre el Sistema de la Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales

Sistema de La Haya Relativo al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales   Ginebra, 25 de octubre de 2010     La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) está organizando un Seminario sobre el Sistema de la Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales que tendrá lugar en la sede de la OMPI en Ginebra, el 17 de noviembre de 2010.  El seminario será llevado a cabo en inglés y francés con interpretación simultánea al español, francés e inglés.   El objetivo del seminario es promover una mejor comprensión del sistema de la Haya entre los usuarios actuales y potenciales, tanto de la industria o de la práctica privada, y se focalizará en las necesidades de los agentes de propiedad industrial de las empresas o independientes (para-legales así como abogados), que presentan solicitudes para el registro de dibujos y modelos industriales y administran tales registros.  El seminario cubrirá todos los aspectos del sistema de la Haya, incluyendo asuntos legales y prácticos (principales características y ventajas del sistema, los diferentes procedimientos, etc.) así como los desarrollos recientes en el área del registro internacional de dibujos y modelos industriales.   Para ver el Programa Provisional del seminario así como el documento de Información General, y para registrarse en-línea, por favor visite:  http://www.wipo.int/meetings/en/registration.html.   Para mayor información sobre el seminario o sobre el sistema de la Haya, por favor sírvase contactar a:   Sección de Información y Promoción Registros Internacional de Dibujos y Modelos Sector de Marcas y Dibujos y Modelos Correo-electrónico:  intreg.mail@wipo.int