lunes, 21 de marzo de 2011

Sistema de La Haya Relativo al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales

Sistema de La Haya Relativo al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales

Ginebra, 21 de marzo de 2011

 

 

Nos permitimos informarles que el plazo de inscripción para el Seminario sobre el Sistema de La Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales, que tendrá lugar en la Sede de la OMPI, en Ginebra, el 30 de marzo de 2011, se ha extendido hasta el 25 de marzo de 2011.

 

Para mayor información sobre el seminario o sobre el sistema de la Haya, por favor sírvase contactar a:

 

Sección de Información y Promoción

Registros Internacional de Dibujos y Modelos

Sector de Marcas y Dibujos y Modelos

Correo-electrónico:  intreg.mail@wipo.int

 

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