Seminario sobre el Sistema de La Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales

Sistema de La Haya Relativo al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales Ginebra, 10 de mayo de 2012 La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) está organizando un Seminario sobre el Sistema de La Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales que tendrá lugar en la sede de la OMPI en Ginebra, el 6 de junio de 2012.  El seminario será llevado a cabo en inglés y francés con interpretación simultánea al francés e inglés.     El objetivo del seminario es promover una mejor comprensión del sistema de la Haya entre los usuarios actuales y potenciales, tanto de la industria como de la práctica privada, y se focalizará en las necesidades de los agentes de propiedad industrial de las empresas o independientes (para-legales así como abogados), que presentan solicitudes para el registro de dibujos y modelos industriales y administran tales registros.  El seminario cubrirá todos los aspectos del sistema de la Haya, incluyendo asuntos legales y prácticos (principales características y ventajas del sistema, los diferentes procedimientos, etc.) así como los desarrollos recientes en el área del registro internacional de dibujos y modelos industriales.   Para ver el Programa Provisional del seminario así como el documento de Información General, y para registrarse en-línea, por favor visite:  http://www.wipo.int/hague/en/meetings/seminars.html   Para mayor información sobre el seminario o sobre el sistema de la Haya, por favor sírvase contactar a:   Sección de Información y Promoción Registro Internacional de Dibujos y Modelos Sector de Marcas y Dibujos y Modelos Correo-electrónico:  intreg.mail@wipo.int Anule su suscripción a este servicio.