Sistema de La Haya Relativo al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales
Ginebra, 21 de mayo de 2010
La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) está organizando conjuntamente con la Oficina Española de Patentes y Marcas (OEPM) y la Oficina de Armonización del Mercado Interior (Marcas, Dibujos y Modelos) (OAMI) las "Jornadas sobre Protección de los Diseños: Diseño Registrado", en Madrid, Alicante y Barcelona, 7 de junio de 2010, el 9 de junio de 2010 y el 10 de junio de 2010, respectivamente. Las jornadas se llevarán a cabo en español.
El objetivo de las jornadas es ofrecer una visión global sobre las posibilidades de protección de los diseños industriales a nivel nacional, comunitario e internacional. Está dirigido a los diseñadores, agentes de propiedad industrial y representantes, PYMES, asociaciones de diseño, académicos, etc.
Para mayor información sobre las jornadas y para registrarse en línea, por favor sírvase contactar a:
Oficina Española de Patentes y Marcas (OEPM)
Paseo de la Castellana 75
28071 Madrid
+3491 349 54 49 or +3491 349 84 45
areadifusion@oepm.es
http://www.oepm.es/
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