Jornadas sobre Protección de los Diseños: Diseño Registrado

Sistema de La Haya Relativo al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales   Ginebra, 21 de mayo de 2010     La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) está organizando conjuntamente con la Oficina Española de Patentes y Marcas (OEPM) y la Oficina de Armonización del Mercado Interior (Marcas, Dibujos y Modelos) (OAMI) las "Jornadas sobre Protección de los Diseños:  Diseño Registrado", en Madrid, Alicante y Barcelona, 7 de junio de 2010, el 9 de junio de 2010 y el 10 de junio de 2010, respectivamente.  Las jornadas  se llevarán a cabo en español.   El objetivo de las jornadas es ofrecer una visión global sobre las posibilidades de protección de los diseños industriales a nivel nacional, comunitario e internacional.  Está dirigido a los diseñadores, agentes de propiedad industrial y representantes, PYMES, asociaciones de diseño, académicos, etc.   Para mayor información sobre las jornadas y para registrarse en línea, por favor sírvase contactar a:   Oficina Española de Patentes y Marcas (OEPM) Paseo de la Castellana 75 28071 Madrid +3491 349 54 49 or +3491 349 84 45 areadifusion@oepm.es http://www.oepm.es/