Sistema de La Haya para al Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales
Ginebra, 17 de abril de 2013
La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) está organizando un Seminario sobre el Sistema de La Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales que tendrá lugar en la sede de la OMPI en Ginebra, el 31 de mayo de 2013. El Seminario será llevado a cabo en inglés y francés con interpretación simultánea.
El objetivo del Seminario es promover una mejor comprensión del sistema de la Haya entre los usuarios actuales y potenciales, tanto de la industria o de la práctica privada, y se focalizará en las necesidades de los agentes de propiedad industrial de las empresas o independientes (para-legales así como abogados), que presentan solicitudes para el registro de dibujos y modelos industriales y administran tales registros. El Seminario cubrirá todos los aspectos del sistema de la Haya, incluyendo asuntos legales y prácticos (principales características y ventajas del sistema, los diferentes procedimientos, etc.) así como los desarrollos recientes en el área del registro internacional de dibujos y modelos industriales, en particular, las nuevas herramientas electrónicas cuyo cometido es que la utilización del sistema internacional de registro sea más eficiente. En consecuencia, sería conveniente que también participen en el Seminario los usuarios que ya estén familiarizados con el sistema. Para ver el Programa Provisional del Seminario así como el documento de Información General, y para registrarse en-línea, por favor visite:
http://www.wipo.int/hague/es/meetings/seminars.html.
Para mayor información sobre el Seminario o sobre el sistema de la Haya, por favor sírvase contactar a:
Sección de Información y Promoción
Registro de La Haya
Sector de Marcas y Diseños
Correo-electrónico: intreg.mail@wipo.int
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