Seminario sobre el Sistema de La Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales, Ginebra, el 13 de noviembre de 2014

Sistema de La Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales Ginebra, 21 de octubre de 2014   La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) está organizando en su sede en Ginebra, el 13 de noviembre de 2014, un Seminario sobre el Sistema de La Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales.    Los objetivos de dicho seminario son:  i) fomentar un amplio debate sobre el funcionamiento del Sistema de La Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales;  ii) hacer conocer a los usuarios actuales y potenciales la última versión del entorno de presentación electrónica de solicitudes;  y iii) mantener informada a la comunidad de los usuarios del Sistema de La Haya acerca de las novedades y cambios en el procedimiento de presentación de solicitudes que ocurrirán tras la futura ratificación del Acta de Ginebra (1999) por los Estados Unidos de América.   En la página del sitio Web de la OMPI http://www.wipo.int/meetings/en/details.jsp?meeting_id=34862 se pueden consultar el documento de información general (documento WIPO/HS/14/INF/1) así como el programa provisional del seminario (documento WIPO/HS/14/INF/2 Prov.), disponibles en inglés.  Otros documentos de trabajo estarán disponibles en el sitio Web de la OMPI oportunamente.  El Seminario se llevará a cabo en inglés.   Para facilitar la inscripción, los participantes deberán inscribirse en línea antes del 7 de noviembre de 2014, en la siguiente dirección:  https://webaccess.wipo.int/hague01/.   Cualquier pregunta relativa al Seminario puede ser dirigida al Sr. Yves Closet, Jefe de la Sección de Información y Promoción, Registro de La Haya, Sector de Marcas y Diseños, correo electrónico:  hague.seminars@wipo.int. Anule su suscripción a este servicio.