Seminario sobre el Sistema de La Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales después de la adhesión de los Estados Unidos de América y Japón en el Sistema de La Haya

Sistema de la Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales Ginebra, 25 de febrero de 2015   La Organización Mundial de la Propiedad Intelectual (OMPI) está organizando en su sede en Ginebra, el 9 de abril de 2015, un Seminario sobre el Sistema de La Haya para el Registro Internacional de Dibujos y Modelos Industriales.    El Seminario tiene como objetivo ofrecer orientación práctica a los usuarios a la hora de designar a los Estados Unidos de América, el Japón o la República de Corea en una solicitud de registro internacional de dibujo o modelo.  Además, se expondrá a los usuarios el punto de vista de un experto del sector privado en relación con una posible estrategia de presentación de solicitudes.   En la página del sitio Web de la OMPI http://www.wipo.int/meetings/en/details.jsp?meeting_id=35989 se puede consultar un documento de información general (documento WIPO/HS1/15/INF/1) así como el programa provisional del seminario (documento WIPO/HS1/15/INF/2 Prov.), disponibles en inglés.  Otros documentos de trabajo estarán disponibles en el sitio Web de la OMPI oportunamente.  El seminario se llevará a cabo en inglés.   Para facilitar la inscripción, los participantes deberán inscribirse en línea antes del 2 de abril de 2015 en la siguiente dirección:  https://webaccess.wipo.int/hague01/.   Cualquier pregunta relativa al Seminario puede ser dirigida al Sr. Yves Closet, Jefe de la Sección de Información y Promoción, Registro de La Haya, Sector de Marcas y Diseños, correo electrónico:  hagueseminar.mail@wipo.int.   Anule su suscripción a este servicio.